一、產(chǎn)品簡介
MPD-2W金相試樣磨拋機是我廠新研發(fā)的一款設(shè)備，機身采用ABS整體注塑，具有耐沖擊、耐腐蝕等特點，相比金屬外殼，其外形也更加流暢，美觀。密封式進(jìn)出水結(jié)構(gòu)；流水與線路板完全隔開。超大超深磨樣室，有效阻擋冷卻水及磨拋液外濺，研磨拋光較大工件時操作更加方便。
該設(shè)備適用于金屬、陶瓷、巖石、電子器件等各類樣件的精密研磨拋光，本機集粗磨、精磨、拋光等功能與一體，更換砂紙方便快捷，具備多種磨拋盤選擇，滿足各類實驗的研磨拋光要求。
二、產(chǎn)品特點：
1、采用整體注塑外殼設(shè)計
2、密封式進(jìn)排水系統(tǒng)
3、多種磨拋盤選擇(200mm、230mm 、250mm、 300mm)
4、雙盤雙工位系統(tǒng)
5、定速和無極調(diào)速
6、轉(zhuǎn)速方式:正反轉(zhuǎn)任意調(diào)節(jié)
7、360度任意旋轉(zhuǎn)水龍頭 三、技術(shù)規(guī)格：
| 型號 | MPD-2W | | 機體形式 | 臺式雙盤 | | 控制方式 | 雙盤單控 | | 轉(zhuǎn)向選擇 | 雙轉(zhuǎn)向（正反轉(zhuǎn)） | | 磨盤轉(zhuǎn)速 | 無極調(diào)速100-1450轉(zhuǎn)/分鐘+高低定速 | | 主機功率 | 550W | | 速度控制 | 交流變頻控制器 | | 磨盤直徑 | 230mm（可選配200、250、300mm等規(guī)格） | | 出水噴灑 | 萬向可調(diào) | | 外形尺寸 | 850×750×450mm | | 電源 | 220V | | | | 常用耗材（選配） | | | 金相砂紙 | 240、600、1000/1500#（其他規(guī)格400、2000#等）適用于常規(guī)金屬類樣件的研磨 | | 金剛石磨盤 | 240、600、1000/1500#（其他規(guī)格400、2000#等）適用于超硬材料樣件的研磨 | | 金剛石砂紙 | 粒度：45-0.3μm（適合超硬材料的精密研磨及粗拋，如陶瓷、晶體等材料） | | 拋光布料 | 呢料、絲絨、羊毛等（對特殊材料也需要采取粗拋、精拋等多道拋光工藝） | | 金剛石拋光劑 | 粒度：45-0.5μm（比較廣泛的拋光輔料，適合各類材料的拋光） | | 金剛石懸浮液 | 粒度：45-0.5μm（比較廣泛的拋光輔料，更適合自動磨拋機使用） | | 精細(xì)拋光液 | 粒度：0.12-0.015μm（尤其適合軟金屬的精細(xì)拋光，如鋁合金、銅、金等材料） | | 磁性磨盤 | 更便于更換砂紙及拋光布料 |
四、常用耗材：
1、金相砂紙：240、600、1000、1500#(其他規(guī)格400、2000#等）適用于常規(guī)金屬類樣件的研磨。
2、金剛石磨盤：240、600、1000、1500#(其他規(guī)格400、2000#等）適用于超硬材料樣件的研磨。
3、金剛石砂紙：粒度：45-0.3um(適合超硬材料的精密研磨及粗拋，如陶瓷、晶體等材料）。
4、拋光布料：呢料、絲絨、羊毛等（對特殊材料也需要采用粗拋、精拋等多道拋光工藝）。
5、金剛石拋光劑：粒度：40-0.5um（比較廣泛的拋光輔料，適合各類材料的拋光）。
6、金剛石懸浮液：粒度：40-0.5um（比較廣泛的拋光輔料，更適合自動磨拋機使用）。
7、氧化鋁拋光粉：粒度：30-0.5um （適合碳鋼類樣件的拋光）。
8、磁性磨盤：更便于更換砂紙及拋光布料。
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